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OLED蒸镀设备(LN-1084SC)

2017-05-04 14:59:41

仪器型号:LN-1084SC

生产商:沈阳立宁真空技术研究所

应用范围:

一、本设备主要用于蒸镀各种金属及有机膜层,内设有:4套挂丝式金属源(可以蒸镀Au、Ag、Al等材料), 8套有机源 。蒸发源之间没有污染;进口膜厚仪及探头:4通道膜厚仪,4个通道可同时检测。进口原装成套膜厚探头4套、与膜厚仪连接,可实现膜厚控制与掺杂蒸发;PLC自动控制,带有逻辑控制线路,自动识别、防止操作过程中的误操作。

二、技术参数:

1、真空室本底极限真空度:6×10-5Pa,

2、膜厚不均匀度≤3%,抽速系统从大气开始抽气至5×10-4Pa≤40分钟,

3、系统真空检漏漏率:≤3.0x10-10Pa.m3/S;

4、基片台转速:1~30转/分钟,连续可调;

5、蒸发源加热温度范围及温控精度:

三、有机源:加热温度范围为:室温~800℃,精度为±1℃。可温度控制或电流控制。

四、金属源:电流控制,可加电流范围0~200A。精度为±0.2A.

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