仪器型号：MDA-400M
生产商：韩国Midas System Co.Ltd.
应用范围：
本设备用于紫外光对正胶或者负胶进行照射，通过显影可对样品进行精细的图形化。
主要技术参数：
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项目
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描述
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曝光系统
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光源强度
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350W UV曝光源
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分辨率
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1μm（真空接触）
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光强均匀性
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≦±3%（4英寸基片）
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曝光时间可调范围
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0.1 to 999.9秒
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对准系统
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对准精度
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1μm
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间隙校准
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手动（数码显示）
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控制器
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PLC控制
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制程模式
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真空，硬，软接触和接近式
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PSS制程（真空接触）
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接近式调节
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1μm增量
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吞吐量
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50片/小时
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样品
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基片尺寸
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2，3，4英寸
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掩模尺寸
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4，5英寸
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其它配备
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真空度
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＞650mmHg
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压缩空气
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＞6kg/c㎡
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氮气
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＞4kg/c㎡
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电源
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220V，30A，1Phase
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监视器
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19寸液晶
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