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等离子增强化学气相沉积&反应离子刻蚀机系统

2017-05-04 15:19:19

仪器型号:SKE102012   PECVD & RIE

生产商:台湾矽基科技有限公司

应用范围:

    设备包括PECVD系统及RIE系统,两个系统公用一套电源系统,设备自动化程度高,操作方便,PECVD可用于在基片上沉积SiO2、Si3N4等介质薄膜,RIE(反应离子刻蚀)设备兼有物理和化学作用对各种金属、氧化物膜等进行刻蚀,设备配有O2,N2O,NH3,CF4,SF6,SIH4,H2等气体供选择进行长膜或者刻蚀。

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